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右室前面心外膜ペーシングから両心室ペーシングへのup gradeが有効であった僧帽弁形成術後の1症例
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JPY
Abstract
症例は76歳,女性。1997 年に洞不全症候群,発作性心房細動に対してVVI型ペースメーカーが植え込まれており,その後は慢性心房細動徐脈へと移行していた(心室ペーシング率 60%台)。2015 年12 月のペースメーカー電池交換の際に僧帽弁逆流重度を指摘され,翌月僧帽弁形成,三尖弁形成,メイズ手術を施行し,右室心尖部心内膜リードから右室前面心外膜リードVVI型ペーシングへ変更となった。メイズ手術の影響もあり,術後は心室ペーシングに依存するようになり,右室前面心外膜リードからのペーシングで左室のdyssynchronyが顕著となった。術後1年以内に3 回心不全入院を繰り返し,心機能低下(EF50–60%→ 27%)や左室内腔拡大による僧帽弁逆流再発も認められた。そのため,心臓外科より紹介となり,2017 年7 月に両心室ペースメーカー(VVI型)へup gradeし,右心室リードを右室心尖部へ再挿入して,4 極の左心室リードを冠状静脈洞後側壁枝へ留置した。両心室ペーシングへup grade後も僧帽弁逆流は残存したが,左室収縮能は改善傾向にあり(EF 33%),息切れや呼吸苦は消失し,心不全入院もなくなり,BNPは484.5→48.7 pg/mLまで低下した。僧帽弁形成,三尖弁形成術時に留置した右室前面心外膜ペーシングで左室のdyssynchronyが顕著となったが,両心室ペースメーカーへupgradeすることで心不全が軽快した症例を経験したため,報告する。
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